1/f noise虽然机理仍在研究中,但确实NMOS的要比PMOS强,一般解释如下:
1/f noise主要由栅氧/沟道附近的氧化物陷阱引起的,它会通过俘获或发射与沟道交换载流子,从而引起载流子数量的涨落,另外也会通过库伦散射引起沟道载流子迁移率的涨落。电子的迁移率高,有效质量也比空穴小得多,所以迁移率容易受到缺陷的影响以及容易和缺陷交换载流子,所以一般NMOS的1/f会差一些。