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如何看待“芯片制造关键设备再突破:离子注入机实现全谱系产品国产化”的意义? 第1页

  

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万事俱备,只欠东风

这些很多文章都分析过了。

东风就是:今年上海微电子的光刻机上能不能跑出28纳米了。

别的光刻胶、离子注入、硅片、蚀刻、封装、测试,对于28纳米,基本都没问题。

28纳米现在仍然占到台积电40%多的营收(当然利润占比小很多),在其他很多厂的营收占比更大。

如果能把28纳米吃干抹尽,至少大洋彼岸本土的那些残存芯片厂都要遭遇底特律。

最后只剩下台积电、三星、英特尔。

突破28纳米后,一路飙到10纳米甚至7纳米,都不是梦。28-7是一脉相承的技术。然后把10以上吃干抹尽。把英特尔变成fabless。

然后决战台积电、三星。

只要我们在设备上取得突破,在工艺和成本上占的先机是必然的。因为到时候我们的设备可能都来自于本土,成本会有明显的优势。

当然,这条路还很远。

不过日本也独立搞出了EUV光源。那说明我们也可能做出EUV。

而且,目前来看,日本半导体技术并没有放弃或迟滞,仍然在苦苦挣扎中。如果日本EUV光刻成熟,必然需要大的市场来回本。到时候我们也可以先从日本搞部分EUV过来应急。


总之,这一天是早晚会到来的。




  

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