半导体设备领域国内哪项与国外差距最小？光刻机，刻蚀机，显影机，镀膜机，注入机？ 第1页
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对光刻机略有涉猎，就简单胡扯一下目前光刻机情况。目前，Fab里面目前最普遍的使用是stepper(步进)和scanner（扫描）。在黄光（光刻）车间，只要是Process不是太low，根本看不到国产设备的身影。其中最主要的曝光机市场主要由ASML,Canon,Nikon三家瓜分完毕。在一些Process先进的Fab，基本上都在用ASML设备。国内大陆连买原厂零部件的厂商也凤毛麟角。
曝光机设备的研发和制造是需要耐心去完成，并不是可以用钱直接砸出来的；一台曝光机包含了许多学科交叉，需要花非常人之力和无数时间去完成。一个企业如果想仅仅靠自己闭门造车，困难相当大。还是需要国家扶持及重视，集大家之力共同去做这个事情。
三家设备厂商技术封锁做的太好了，最先进的设备不会卖给中国大陆。曝光机市场利润相当雄厚，从他们公司工程师的待遇就可以看出来。
中国想要在半导体产业上实现真正的强大，还是要花大精力去做大半导体设备，这样才不会受制于人。将来不会因为某个协议而手忙脚乱。
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