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半导体设备领域国内哪项与国外差距最小?光刻机,刻蚀机,显影机,镀膜机,注入机? 第1页

  

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对光刻机略有涉猎,就简单胡扯一下目前光刻机情况。目前,Fab里面目前最普遍的使用是stepper(步进)和scanner(扫描)。在黄光(光刻)车间,只要是Process不是太low,根本看不到国产设备的身影。其中最主要的曝光机市场主要由ASML,Canon,Nikon三家瓜分完毕。在一些Process先进的Fab,基本上都在用ASML设备。国内大陆连买原厂零部件的厂商也凤毛麟角。

曝光机设备的研发和制造是需要耐心去完成,并不是可以用钱直接砸出来的;一台曝光机包含了许多学科交叉,需要花非常人之力和无数时间去完成。一个企业如果想仅仅靠自己闭门造车,困难相当大。还是需要国家扶持及重视,集大家之力共同去做这个事情。

三家设备厂商技术封锁做的太好了,最先进的设备不会卖给中国大陆。曝光机市场利润相当雄厚,从他们公司工程师的待遇就可以看出来。

中国想要在半导体产业上实现真正的强大,还是要花大精力去做大半导体设备,这样才不会受制于人。将来不会因为某个协议而手忙脚乱。




  

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