大陆的半导体代工企业大概什么时候能超过台积电? 第1页

这个问题是说十年内，二十年内还是一百年内？

我目前就在ASML公司工作，做得就是最新一代的EUV光刻机。这么说吧，咱们先别说把光刻机给造出来，就是把光刻机给用好都是一件无比复杂的事情。

台积电算是我们的客户，我很佩服台积电的工程师或者说他们整个的体系。他们对光刻机的使用达到了某种让人钦佩的高度，多的东西涉及到保密不能谈。

打个比方，如果台积电是美国海军拥有十艘十万吨级核动力航母，中国芯片制造商大概就是中国海军，而且是在辽宁舰未拖进港时期的中国海军。你说中国会不会有朝一日造出十万吨级别的核动力航母？这个当然有可能，但是什么时候能造出来，这个真的不好说，需要天时地利人和都具备了才行。这些条件包括或者可能包括：

1. 国家要下大决心，要做好十几年甚至二十年一直亏钱的准备，
2. 外部技术封锁要有些松动（包括各种光学器件，光刻机，光刻胶等等……），
3. 要有一流人才愿意给中国效力（比如钱学森这种大牛）
4. 需要大量从业的工程师来进行过渡。
5. 三星，intel，台积电的某一家要出一个大问题，倒闭或者破产，这样能让出市场份额，给予中国公司发展机会。
6. 新技术恰好在国家大力投入的时候兴起（实现弯道超车）

讲句心里话，有这个钱重新在中国建立起一家台积电一样的公司，还不如用这个钱直接收复台湾，改组台积电。从成本上来看，后者很可能更加便宜。

要我说，台积电这种巨无霸如果不是遇到芯片制造的重大革命，或者战争危机，中国企业很难超越！

我总有一种朦朦胧胧没有根据的感觉，我觉得未来的芯片很可能不是硅片，而是碳，是石墨烯的某种应用。所以，如果从大的笼统的方面来说，中国用新的芯片制造技术超越台积电还是可能的。

大家可能对所谓芯片制造不太了解。这么说吧，如果欧洲一夜之间蒸发了，美国想要重新造出性能相似的光刻机来，至少需要五年！

所以中国要造新型EUV光刻机并不是中国单挑美国，而是中国单挑外国！别的不说，高性能的滤光片，对极端紫外线高反射率的镀膜，耐用的商业激光器……没有一个是中国自己能够造出来的！更确切的说，不是中国造不出来，而是美国有很多也造不出来！镀膜，滤光片，半反半投镜……这些技术低性能也就罢了，高性能的产品都是一年一年试出来的，欧洲起步早，试验得多就是世界最强！中国起步晚，就是造不出来。没有这些基础器件，谈造光刻机就是天方夜谭！所以造光刻机跟造航母不一样，航母并没有在全球的产业链里面。而光刻机是全球产业链整合出来的产品。针对中国的技术封锁如果没有松动，需要重复做的事情太多，绝非十年二十年，靠中国单打独斗能成的。

假如大家还觉得市场，钱，政策能够大跃进式地造出光刻机，那就是绝对错误的认识。我觉得吧，承认某些东西自己确实不行，努力也不行，需要外国帮助，也不是什么坏事。盲目乐观才会断送自己的前程。

当然EUV作为新一代的技术能够实现7nm，5nm的光刻，虽然更加先进，但是呢如果真的台积电被迫不能给中国代工，我们依然可以使用老一点的技术。使用老一点的技术也足以保证国内正常的需要。这也是为什么国家在这个领域没有那么大的动力和决心的一个原因。

总之呢，EUV光刻机可以看作是美元霸权的衍生品。美元霸权还在，中国就无法在这一领域取得重大突破。当且仅当EUV光刻机所需的基础配件能够自由进口到中国的时候，中国才有可能在这个领域有突破。

最后，我再强调一个概念！

可以商用化的产品跟实验室里能够实现之间差了十万八千里！实验室里实现的意思是不考虑成本，不考虑稳定性，能够有那么一次或者两次做成。商用产品的概念是，稳定，高效，可控，能赚钱！就EUV光刻机来说，中国做得最好的大概是长春光机所，也就是搭建了一套实验室的EUV光源设备，而且从技术的实现来看，他们选择了另外一条技术路线，EUV输出的可控性必然不足，商业化依然有巨大瓶颈。至于ASML现阶段的技术，就算中国造出一模一样的东西来，还有专利的麻烦在那里，要规避这一堆专利而商业化几乎做不到。这东西跟航母，战斗机不一样。航母，战斗机你就算仿造别人的也没法起诉侵犯专利。光刻机你要是用同样的原理，光是赔专利侵权就要倾家荡产。

总之呢，如果技术不革新，这一块儿中国想要后来者居上几乎做不到。至于台积电，它是使用EUV光刻机的厂商，如果大陆都没有EUV光刻机可用，谈什么超越台积电呢？

EUV lithography，始于1981年

Imaging performance of a normal incidence x-Ray telescope measured at 0.18 KeV, Proc. SPIE 316 (1981)
Design and assembly of a high resolution Schwarzschiled microscope for soft-X-rays, Proc. SPIE 316 (1981)
Soft x-ray imaging with a normal incidence mirror Nature 294 (1981)

当时所用的LSM反射镜，反射率仅仅只有6%。在实验室里做出了一mm5条线的图案。这应该是第一次多涂层直射成像

大概是在前年，ASML的EUV光刻机才真正开始盈利。也就是说，这项技术整整用了27年，才完备且产业化成功。而且整个研发过程不是仅仅美国在进行，而是集合了欧洲，日本，美国几乎所有发达国家之力。在产业化的过程中因为投入太高，无数公司死在了半路上。

技术本身是死的，技术的生态圈却是活的。这27年里不仅仅只是EUV光刻技术取得了突破，还培养了一大批与之相关的专业人才。以ASML来说50多个地区将近一万名员工几乎把世界上该领域所有的专家学者工程师一网打尽。先不谈在光刻上取得突破，单单就是在中国培训出超过上万名世界一流的专家，学者，工程师就是一件难以达到的目标。更关键的是，EUV光刻机并没有就此停滞，系统的稳定性，功率，效率，每一天都在增加。那么以中国的情况如何能超越？

有人在评论区抬杠，说两弹一星，我再次强调，两弹一星是军工，军工要求的是不惜一切代价造出某种武器。而光刻机说白了是商业产品，需要盈利！前者解决的是有和无的问题，后者解决的是好和坏的问题。如果真要比较，实现商用的EUV光刻机难度比两弹一星要大多了！

当然，同样的技术路线中国想要赶超肯定走不通，另觅溪径说不定能够完成降维打击。只是当前就我看到的资料，国内外还没找到更好的其他技术路线。

我再解释一下为什么收编台积电能够实现技术突破，因为中国有强大的逆向仿制能力！当前在所有相关机器，技术，硬件，软件都封锁的情况下，想要研发一整套技术难度非常大。可是如果直接接管了台积电，如果还能留下一部分台积电的资深工程师进行讲解，那么以大陆的逆向仿制能力，很快仿制出来相应的技术并没有那么难。原因很简单，原本你搞研发要实验一万次才能找到的解决方案，现在你逆向一操作就知道是什么了。这时候投入的资金是事半功倍，风险极低，仿制成功几乎立刻就能盈利。这种时候，钱，人，政策都不是问题。政府并非不舍得投钱，而是怕钱投了，最后全都打了水漂。

我觉得呢，大家还是要把心态放平，每个国家都有自己的短板，都有自己的强项，这才是这个世界能够平衡的根本原因。如果不能接受我们某些技术是短板，幻想这些技术可以用政策性的大跃进一夜筑成，那就是狂妄自大。中国有中国的优势，也有中国的劣势，心态平和，扬长避短，查漏补缺慢慢做也就是了。没有必要一听到自己有什么不行就要拿“两弹一星”来自我麻痹。

我再说一个技术，中国再过30年也还是不行，就是荷兰的奶牛培育！

荷兰奶牛的产奶量是奶用牛中最高的。平均产奶量为4500--6000升/年，乳脂率3.6--3.7%。奶肉兼用的牛，平均产奶量比奶用牛的低1000--2000升，乳脂率4%

你要是跟我说，提高奶牛出奶率难还是“两弹一星”难，我还是那句话，能搞出两弹一星的国家没有一个能养成荷兰奶牛，你觉得哪个更难？还有，其实朝鲜也很有希望搞出两弹一星来不是吗？

想要让技术领先，首先要尊重技术，整天想着一夜之间技术就能世界第一，这就是从根本上不尊重技术。不尊重技术何谈技术领先？中国正在进行产业升级，最要不得的就是不尊重技术，不尊重人才，片面强调政策，金融和资本的作用。如果政策是万能的，苏联的技术应该比美国高出几个段位，如果资本和金融是万能的，美国就不会产业空心化，今天ASML的EUV光刻机只有不到25%的技术是属于美国。

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