不是7的倍数,而是根号二的倍数。
一除以根号二恰好是0.707左右。
单反镜头光圈F值一般也是1.4,2.0,2.8,4,5.6这样的数。
7,14,28 其实是根号二的倍数而已。
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最后,为什么是根号二?因为长度根号二倍对应的是面积两倍。而光圈跟制程最终作用的都是面积。
半导体行业的约定俗成中,每一代工艺应该提升一倍的密度,由于晶体管数量可以近似看做在一个二维平面内的内部矩形数量,晶体管的一边缩短到0.7X,那么整体面积就是0.7*0.7=0.49 约等于密度翻倍,所以一代工艺到新一代工艺,通常就是0.7X附近的命名,再隔一代就是0.5X。实际当中每一代不一定提升两倍密度,但大体还是采用这种方式,差不多够一代就0.7X。
所以你可以看到正代工艺大约是这样的路线:130nm 90nm 65nm 45nm 32nm 22nm。
TSMC 三星等代工厂为了满足客户需求,可能会有半代工艺,基于当前工艺改进,但又不足一代,所以可以看见有80nm 55nm 40nm 28nm 20nm等,半代工艺也大体遵循0.7X 每两个半代之间差0.7X。
进入到FinFet时代后三星率先开始注水,14nm密度基本和20nm类似,但是为了体现FinFet优势,注水命名了20FF为14FF。台积电也同样注水命名20FF为16FF。Intel没注水,但因为下一代工艺密度提升较大,22nm进步了1.5代到了14nm 而不是16nm。此时把14nm扶正成为正代工艺,随后大家在自己的标准上(代工厂注水一代,Intel没有),陆续发展了10nm 7nm。期间有一些没到一代的半代工艺(12nm 11nm 8nm 6nm等)
到了7nm之后,三星再次注水这次没有什么革命新技术,直接把7nm第二代7LPP改名为5LPE,可以说对于三星几nm已经没多少实际意义了,7nm 6nm 5nm 4nm全都是和台积电7nm同代,和Intel10nm同代。
台积电注水一次后没有再次注水,Intel依旧没有注水,所以Intel 7nm 台积电5nm 三星3nm这个看似三代工艺的其实是一代工艺(按照密度算)。
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