光刻机那么贵，一台光刻机一天能造多少芯片，能够本吗？ 第1页

一般来讲，一台光刻机有个很重要的指标叫WPH，一小时单位产能，现在比较先进的DUV已经能做到200+，也就是一小时处理200片+。

光刻机是是一个很重要的设备，但是显然不是唯一设备，一般在FAB里面，光刻机其实也就10余台左右，并且是高低搭配，比如一个3万片产能28nm的FAB，大概有2台NXT 1980i+8台NXT 1965+2台PAS5500+2台尼康，一共也就14台左右，已经足够了。除了最下面的晶体管层需要最先进的光刻机之外，上面做铜互连无需最先进的光刻机，因此不是14台全部都是最先进的1980i来做。

请记住，光刻机的最大WPH决定了月产能，但是光刻机不是产能瓶颈设备！

数量最多的主要是沉积设备（包括PVD CVD），刻蚀设备（ICP，CCP，DIE），和热处理设备（RTP），这三类是最多的。扩产也往往是这类设备，比如28nm，基本每多一万片产能至少大约增加50-60台刻蚀机，但是光刻机可能仅增加2-3台。

如果这么单算，3万片一个月也就1000片一天，14台设备好像离到WPH200+差很多么？产能过剩？其实28nm大概有13层metel，外加晶体管层，大概是15 片MASK，每片MASK照一次就是15次。所以28nm一片wafer大概要反复光照13-15次。

至于够不够本，基本要等晶圆厂折旧完毕才能赚钱，业内普遍是十年折旧，而台积电这个变态是5年折旧……

28nm工艺多少metel 多少MASK，我要去翻一下台积电的官网，暂时先这么写，不对我回头改。