百科问答小站 logo
百科问答小站 font logo



举国体制研发光刻机,能否赶超世界最先进水平? 第1页

  

user avatar   andre-31-44 网友的相关建议: 
      

长期稳定投入和国家级的支持是任何复杂尖端技术得以产业化前提条件。特别是对于追赶先进技术而言,必须得保障研发经费,让人才安心工作,而不今天担心资金,明天担心前途。同样对于大型复杂项目也需要国家协调相关技术和产业资源。

SMEE得到国家技术专项支持,造出DUV已经投产,那更进一步有什么不能呢?

最后举国体制也不是闭门造车,并不排斥国际合作与引进技术、人才。




  

相关话题

  如何看待华为芯片堆叠封装专利公开,「用堆叠换性能, 降低硅通孔技术成本」? 
  国产 8K 超高清CMOS芯片研发成功,有哪些意义?就将会给国产相机行业带来哪些影响? 
  “零功耗”节能控制芯片? 
  物联网+云+人工智能化 趋势下,IC的发展在模拟领域,是否会有作为? 
  继芯片系统后,美国对中国制裁的下一拳会打在哪里? 
  芯片功耗年年降低,为什么还是会有火龙出现? 
  半导体芯片工艺制程 nm 越小对于性能提升究竟有多大呢? 
  我国的光刻机开发得怎么样了? 
  如何看待中央台经济半小时讲自主研发芯片主讲小米澎湃,而不讲更早的华为麒麟? 
  为什么芯片的工作温度不能超过100℃,却又可以承受280℃以上的热风? 

前一个讨论
光刻机和航发哪个制造难度更大?
下一个讨论
俄罗斯有哪些半导体公司?水平如何?为什么美国没有拿半导体制裁俄?





© 2025-02-22 - tinynew.org. All Rights Reserved.
© 2025-02-22 - tinynew.org. 保留所有权利